Mini-PLD

Pulsed Laser Deposition

Mini-PLD (gepulste Laserdeposition)-Anlage für schnelle Deposition und sublimierende Materialien. Die speziell konstruierte optische Heizung mit einer Glühbirne erlaubt Temperaturen über 700° C.

Gerätespezifikationen

Anzahl der PLD Targets	1
Substratgröße	bis zu 10x10 mm²
Temperaturbereich	25-700 °C
Prozessgase	Ar₂, O₂
Laser	KrF Excimer-Laser mit 248 nm, 750 mJ