Plasmaimmersion
Es sind zwei Vakuumkammern für die PIII&D vorhanden. Bei einer Kammer besteht die Möglichkeit für zusätzliches Magnetronsputtern.
Die Proben werden auf einem Halter fixiert (üblicherweise mit Schrauben), welcher im Inneren der Kammer von einem Isolator gehalten wird. Die Spannung wird über eine Hochspannungsdurchführung zur Probe geleitet. Es stehen zwei Hochspannungspulser und eine DC-Spannungsversorgung zur Verfügung.
Zur analytischen Charakterisierung stehen ein Quadrupol-Massenspektrometer und ein optisches Spektrometer zur Verfügung.
Gerätespezifikationen
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Kammer 1 zur Implantation und Herstellung von DLC-Schichten |
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| Volumen | 0,075 m3 |
| Basisdruck | 10-7 hPa |
| Durchmesser Probenhalter | 10 cm |
| Anzahl MFC | 4 |
| Hochspannungspulser | |
| Max. Spannung | 25 kV |
| Pulslänge | 1 – 100 µs |
| Pulsanstiegszeit | 300 ns |
| DC-Spannungsversorgung | |
| Max. Spannung | 3,5 kV |
| Max. Strom | 1,5 A |
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Kammer 2 zur Herstellung von DLC- und Metallschichten |
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| Volumen | 0,065 m3 |
| Basisdruck | 2 x 10-7 hPa |
| Durchmesser Probenhalter | 10 – 20 cm |
| Anzahl MFC | 4 |
| Sputterquelle | |
| Targetdurchmesser | 2" (5,1 cm) |
| Stromversorgung | 300 W RF |
| Flexible Ausrichtung | |
| Integrierter Shutter |